实现顶级硅光子学技术的原子层沉积设备及解决方案

根据Maims Consulting的一份报告,最近,芬兰设备制造商Picoson凭借其ALD(原子层沉积)设备和解决方案,在开发一流的光子学技术方面取得了令人瞩目的成果。

光波导放大器、激光器等光学器件是光数据传输的核心部件,也是实现社会现代化、互联互通和信息驱动的关键技术之一。

硅光子集成技术推动了光学器件的进一步发展,光学解决方案克服了传统技术中的一些关键挑战,开创了微电子技术的新纪元。

掺铒光波导放大器和激光器是最有潜力的信号产生和通信波长放大的候选器件。为了获得这些器件的最佳性能,必须严格优化和控制铒原子在主体材料中的数量和空间分布。只有ALD技术才能满足上述要求。

芬兰阿尔托大学(Aalto University)的孙志培教授也是Picosun的客户之一,他现在已经采用了Picosun的ALD技术,并与国际合作伙伴在Micronova(芬兰国家微纳米技术研究基础设施,由芬兰VTT技术研究中心和阿尔托大学联合研制了世界纪录的高性能掺铒硅光子集成波导放大器。

“硅光子集成技术已经被光学领域的企业采用,是微电子技术未来的发展方向。我们对PICOSUN®ALD设备的性能以及其制造的Er:Al2O3光波导放大器的卓越质量非常满意。在遇到问题时,Picosun的客户支持和咨询人员随时准备为我们提供优质的服务。阿尔托大学电子与纳米工程系的约翰·罗恩博士说:“ALD技术与CMOS工艺兼容,这进一步促进了我们光波导芯片的商业化生产。”。

“自从ALD技术发明以来,它一直是未来颠覆性技术的助推器。Picosun非常乐意与该领域的专家合作。例如,阿尔托大学是我们的重要客户。我们的ALD解决方案为他们提供了创新的工作。为了发展更先进的通讯和数据传输技术,以实现一个更加互联、开放和一体化的全球社会。