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          我们都将与您并肩同行

          新一代智能化系统设计

          简洁友好软硬件界面+全方位安全互锁解决方案

          中国ALD创新驱动者

          ALD(原子层沉积)是适用于所有用途的下一代涂层技术

        • 力求成为您可靠的服务商

             原速光电科技有限公司(Superald, LLC)是一家专注于原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)系统设计、工艺研发及技术咨询的高科技企业,为半导体、新能源、柔性显示、光学镀膜、生物医疗、催化、纳米技术等领域的薄膜研发和生产提供优质的技术服务和一体化解决方案,致力打造全球一流的薄膜材料制备平台。

        • 产品与服务

          为您提供原子层沉积(ALD)设备、材料及工艺的一体化技术解决方案

          研发型设备

           

          Exploiter 智能化ALD材料研发系统

          · 高介电常数绝缘材料
          · 单原子催化材料
          · 钝化层材料
          · 缓冲层材料

          · 阻隔层材料
          · 光学薄膜材料
          · 生物相容性材料

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          定制化量产设备

           

          新一代工业级ALD量产装备

          · 材料/器件性能的提升
          · 高产能、低成本
          · 大面积高均匀性沉积
          · 实现高良率的产品生产

          · 智能化用户友好界面
          · 稳定可靠性生产
          · 全方位安全互锁

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          新材料开发与代工

           

          定制化ALD薄膜材料生长工艺

          · 多功能陶瓷薄膜
          · 低电阻率金属薄膜
          · 新型半导体材料薄膜
          · MLD高分子薄膜
          · 纳米叠层薄膜
          · 三元及多元化合物薄膜
          · 掺杂化合物薄膜

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          医学
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          原子层沉积_光学镀膜_纳米涂层_ALD_CVD_PVD-原速科技SUPERALD
          原速科技(Superald,LLC)是一家专注于开发新一代ALD原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)技术的高科技企业,为CVD,PVD,光学镀膜,钝化层,纳米涂层,卷对卷设备,薄膜材料,微纳加工及锂电池包覆等领域的薄膜研发和生产提供优质的技术服务和一体化解决方案,致力打造全球一流的薄膜材料制备平台.
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