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    ALD原子层沉积技术在金属粉末领域是如何应用?

    原子层沉积(ALD)技术是一种化学气相沉积(CVD)技术。它最初由芬兰科学家提出,用于开发多晶荧光材料ZnS、Mn和非晶Al2O3绝缘膜。这些材料用于平板显示器。20世纪90年代中期,硅半导体....

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    常用的光学涂层材料由薄膜层组合而成

    光学涂层由薄膜层组合而成,产生干涉效应以改善光学系统的透射或反射性能。其性能取决于层数、各层厚度和不同层界面的折射率。精密光学中最常用的涂层类型:减反射涂层(AR)、高反射(镜面)涂层、分束器涂层。....

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    原子层沉积技术助力新一代高性能储能器件研究

    原子层沉积(ALD, Atomic layer deposition)技术, 是指将被沉积物质以单原子。它利用饱和化学吸附的特性,可以确保对大面积、多孔、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形均匀沉积,是一种真正的“纳米”技术。

     

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    在经济繁荣时期,设备工业已跻身世界十强。ASM的ALD和EPI的特点是什么?

    过去几年,包括中国在内的全球晶圆产能扩张,以及对新工艺的投资,使半导体设备制造商迎来了一个繁荣时期。每一份财务报告都很好。其中,ASM表现异常出色。数

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    选择性原子层沉积有哪些技术要点?

    许多参与原子层沉积(ALD)的人都知道选择性原子层沉积是当今的一个热门话题。各种各样的论文、研讨会和博客文章层出不穷,详细解释了可以实现选择性增长的各种新方法。从某种意义上讲,选择性ALD使用一种长期困扰ALD使用者的效应