原子层沉积（ALD）技术是一种化学气相沉积（CVD）技术。它最初由芬兰科学家提出，用于开发多晶荧光材料ZnS、Mn和非晶Al2O3绝缘膜。这些材料用于平板显示器。20世纪90年代中期，硅半导体....

光学涂层由薄膜层组合而成，产生干涉效应以改善光学系统的透射或反射性能。其性能取决于层数、各层厚度和不同层界面的折射率。精密光学中最常用的涂层类型：减反射涂层（AR）、高反射（镜面）涂层、分束器涂层。....

原子层沉积(ALD, Atomic layer deposition)技术, 是指将被沉积物质以单原子。它利用饱和化学吸附的特性，可以确保对大面积、多孔、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形均匀沉积，是一种真正的“纳米”技术。

过去几年，包括中国在内的全球晶圆产能扩张，以及对新工艺的投资，使半导体设备制造商迎来了一个繁荣时期。每一份财务报告都很好。其中，ASM表现异常出色。数

许多参与原子层沉积（ALD）的人都知道选择性原子层沉积是当今的一个热门话题。各种各样的论文、研讨会和博客文章层出不穷，详细解释了可以实现选择性增长的各种新方法。从某种意义上讲，选择性ALD使用一种长期困扰ALD使用者的效应