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  • 大尺寸沉积系统 

    Thermal-ALD E300S

    设备参数

    设备规格

     

    衬底尺寸:标准尺寸:300mm Dia (12 inch)(可定制)
    工艺温度:温度范围:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)
    前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶

    加热系统:可加热温度范围:RT~150℃

    反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)
    载气:标准:N2, MFC 流量控制(可定制)
    压力监测:双薄膜规组合(耐腐蚀),0.005Torr - 1000Torr
    本底真空度:<5x10-3 Torr
    真空系统:标准油泵

    控制系统:19寸显示器,支持触控工业级嵌入式工控机,高可靠性,支持扩展
    操作系统:Win7 操作系统,工业级可编程逻辑控制器,支持现场总线与实时多任务处理操作

     

    工艺

     

    可沉积薄膜种类和应用场景包括:
    • High-K介电材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta205, La2O3);
    • 金屬互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In);
    • 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):
    • 生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN);
    •金厲(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni;
    • 压电层 (ZnO, AIN, ZnS);
    • 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO);
    • 光子晶体(ZnO, Ti02, Ta3N5);等

     

    机架Cabinet

     

    •框架采用进口铝材搭建,重量轻、承载能力强,散热性好

    •外壳采用碳钢烤漆及圆角处理,轻便美观,拆卸方便,符合人体工学

    •显示屏360度自由旋转,可调视距、视角、自由悬停

     

     

    控制系统

     

    • 控制系统采用 PLC+工控机+19 寸触摸屏方式实现,系统通过高速以太网进行通讯。

    • 采用 PLC 对设备进行实时控制,同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动,支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能

    • 设备支持“一键沉积”功能,点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积;提供独立的手动操作页面,支持手动开关阀门的操作,人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式

    • 设备运行软件提供用户权限管理功能,可根据用户级别设定使用权限,防止误操作,保证设备和人身安全

    • 设备运行软件提供逻辑互锁功能,防止用户误操作,并弹出信息对话框进行提示

    • 设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能

     

    真空系统


    · 真空测量采用双真空压力计组合方式,工艺数据更真实,更迅速,更精确,为工艺人员提供井真的数据采集来源,为工艺的可重复性提供了可靠的保障
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