• ALD-OLED

  • 随着显示技术的发展,电致发光器件(Light Emitting Diode,LED)已成为当前极具发展前景的显示,有着传统显示技术不可比拟的优势。其中有机电致发光器件(Organic Light Emitting Diode, OLED)因其轻薄、视角广、响应时间短、发光效率高、成本低等优点成为公认的新一代显示技术。但是OLED器件对水和空气极为敏感,为保证OLED器件的寿命,通常要求封装材料的水汽透过率(WVTR)小于10-6 g/(m2·day)。

     

    传统的OLED封装技术通常利用厚膜,甚至高分子聚合物/玻璃进行封装,以达到预期的阻隔性能。这些传统的封装技术导致OLED保护层厚度增加,从而导致发光强度减弱。厚膜还会增加显示器件的硬度,不适合用于弯曲或者折叠的显示器。

     

    原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)技术是一种原子尺度的薄膜制备技术,沉积的薄膜均匀性好、材料致密、厚度精确可控且工艺温度适中,是超高阻隔膜的理想制备方法,可完美兼容OLED器件的封装,大大延长其寿命。

     

    几十纳米厚度的ALD封装膜甚至可媲美传统OLED封装技术的阻隔效果,同时具有良好的透光率、热导率、机械强度、耐腐蚀性及与基底的粘结性等性质;ALD封装薄膜因其纳米级的膜厚,可以实现很大程度上的弯曲并保持封装效果不变,这一特性可完美兼容柔性OLED器件封装,真正做到显示屏的可折叠、卷曲;ALD薄膜优异的保型性使其在一些复杂形貌和三维纳米结构的LED表面实现出色的钝化保护层,有效地起到阻隔水氧的作用,提高性能;用ALD在LED表面沉积钝化膜还可以很好地修补被等离子刻蚀造成的破坏性表面,可有效降低漏电流,显著提高LED效率。

  • 图一:在ITO-聚酯膜上制备的柔性OLED显示单元[1]

  • 图2:OLED封装类型及不同柔性需求对应的水汽透过率[2]

    参考资料

    [1]Burrows P E, Graff G L, Gross M E, et al. . Displays, 2001, 22(2): 65-69.

    [2]Jeong E G, Kwon J H, Kang K S, et al. Journal of Information Display, 2020, 21(1): 19-32.

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