技术与服务 - 原子层沉积_光学镀膜_纳米涂层_ALD_CVD

技术推动进步，研发成就未来
————— 原速科技
镀膜加工服务
● 代加工服务
根据客户的具体应用需求，原速将提供根据薄膜的特定应用体系，为客户提供原材料选择、工艺路线制定等全方位服务。

● 代加工模式
可以按照工艺需求分为

①小批量代工（单次或数次）
费用：根据沉积材料的种类以及厚度进行按次收费，次数达到一定数额后可享受相关优惠，如有设备采购意向，可视情况抵扣设备采购费用或享受更优惠的代工价格，详细信息欢迎致电咨询

②大批量代工（定期批量生产）
费用：根据项目总工作量进行评估，视情况可以分期付款。如有设备采购意向，可享受更优惠的设备采购价格，详细信息欢迎致电咨询
材料研发中心
原子层沉积（ALD）技术在光学、纳米技术、微机械系统、能源、催化、生物医用、显示器、耐腐蚀及密封涂层等领域的研究方兴未艾，呈现爆发式增长。原速科技创建材料研发中心，目的是为广大客户提供设备加薄膜开发一站式服务。
粉体包裹原子层沉积系统

材料研发中心针对原子层沉积技术在粉体表面包裹纳米薄膜做了许多探索。值得开心的是，基于原速自主开发的PA系列，研发中心已取得阶段性成功。我们可以通过下述TEM图清楚的观察到氧化硅粉体表面均匀包裹了一层致密的TiO2纳米薄膜。
ALD最经典案例——氧化铝的制备及表征
反应原理：2Al(CH3)3 (g) + 3H2O (g)→ Al2O3 (S) + 6CH4 (g)
TMA与基底表面羟基基团的作用，形成表面Al-O-Al的桥氧键，H2O与桥氧键进行反应，形成Al2O3，释放出甲烷
数据为材料研发中心实际研发获取
Al2O3温度窗口及不均匀性
Al2O3 9点膜厚分布
氧化铝表征数据
AFM RMS: 0.293nm
截面 SEM
TEM
致密Al2O3薄膜不定形态
常见问题解答
联系我们，为您解答原子层沉积技术由设备到工艺，由研发到生产的全方位难题！
原子层沉积（ALD）技术制备纳米薄膜是如何做到均匀性、台阶覆盖性这么好的？
原子层沉积（ALD）与化学气相沉积（CVD）有什么不同？
还有更多薄膜研发数据吗？
原子层沉积技术如何应用到我的研究方向还不是很清楚，希望可以提供更多思路？
联系我们
深圳市宝安区西乡街道蚝业社区大铲湾蓝色未来科技园二期2栋2层
www.superald.com
0755-23216544 / 18026941256
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ALD最经典案例——氧化铝的制备及表征

反应原理：2Al(CH3)3 (g) + 3H2O (g)→ Al2O3 (S) + 6CH4 (g)

TMA与基底表面羟基基团的作用，形成表面Al-O-Al的桥氧键，H2O与桥氧键进行反应，形成Al2O3，释放出甲烷

数据为材料研发中心实际研发获取

Al2O3温度窗口及不均匀性

Al2O3 9点膜厚分布

氧化铝表征数据

AFM RMS: 0.293nm

截面 SEM

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原子层沉积（ALD）与化学气相沉积（CVD）有什么不同？

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